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安動半導體等離子清洗機:高精適配,破解表面處理痛點

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VP-10S 片式真空等離子清洗機#等離子清洗技術
設備系統PC控制,支持主流多種通訊協議;
設備依SEMI安全生產標準設計生產;
通道設計產能高,UPH 400~550pcs;
適用多種產品尺寸及彈夾;
MFC晶圓級專利設計,防止氣體泄漏引發安全事故;
腔體高密封專利設計最高可達5pa以內;
水滴角<30°(與清潔表面材質相關)。

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VP-10L 在線式真空等離子清洗機
輸送機構采用電動調幅,寬窄可調節;在線式輸送系統,可與前后設備通訊接駁;
真空腔體采用鋁合金制作而成;
超低溫:溫度低至40度;
全方位表面清洗:異向等離子體可以進入超細狹縫清洗。

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AP-3P 在線式常壓等離子清洗機
活化:大幅提高表面的潤濕性能,形成活性的表面;
清洗:去除灰塵和油污,精細清洗和去靜電;
提高表面的附著能力;
提高表面粘接的可靠性和持久性。

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